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电子行业超纯水系统

 

         

 
我公司电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

 

 

         

 
系统采用全自动控制(同时亦可采用手动控制），系统运行时可设定自动反洗、再生程序；
一级反渗透和二级反渗透设有回流管道，反渗透设备设有化学清洗装置和消毒装置；
在一级反渗透和二级反渗透间设有PH调节装置，以保证设备产水电导率符合药典要求；
二级反渗透膜采用带正电荷的抗污染反渗透膜，以保证反渗透设备能长期稳定运行；
在第一级反渗透和第二级反渗透设备中均装有在线电导检测仪表，产水电导率可随时观看；
一级反渗透和二级反渗透前均设有低压保护和高压保护开关；
 
一级、二级反渗透水回收率可调整，一级反渗透回收率50％～65％，二级反渗透回收率70～85％；
 
前处理装置均采用原装进口件；前处理设备间管路采用UPVC管材；
 
纯化水储水罐带呼吸过滤器，输送管道装有紫外线杀菌器和微孔过滤器，保证纯水符合卫生要求。

 

        

 
计算机CPU、单晶硅半导体、液晶显示器、印刷电路板、计算机硬盘、集成电路板、显像管制造等。
半导体、电子工业是目前世界上要求最标准的超纯水用户。超纯水制造技术的发展极大地推动了半导体和电子工业的技术发展。综合膜技术、紫外、离子交换、CDI、超滤、氮封、脱气膜等技术，有效满足电子级超纯水对总有机碳（TOC）、硅、电阻率、微粒、细菌、金属离子、溶解氧等指标的特殊要求。
 
 

 

         

 
型 号
产水量(M3/H)
管径(mm)
工作压力(MPa)
工作方式
ZWEW–0.25
0.25
DN20
≤1.4
全自动/半自动
ZWEW–0.5
0.5
DN20
≤1.4
全自动/半自动
ZWEW-1
1
DN25
≤1.4
全自动/半自动
ZWEW-2
2
DN32
≤1.6
全自动/半自动
ZWEW-3
3
DN40
≤1.6
全自动/半自动
ZWEW-5
5
DN50
≤1.6
全自动/半自动
ZWEW-10
10
DN75
≤1.6
全自动/半自动
ZWEW-20
20
DN100
≤1.6
全自动/半自动
ZWEW-30
30
DN125
≤1.6
全自动/半自动
ZWEW-40
40
DN150
≤1.6
全自动/半自动
ZWEW-50
50
DN200
≤1.6
全自动/半自动